ASML:预计到2025—2026 年将大幅提升产能

类别:行业趋势  出处:中国电子报  发布于:2023-02-17 10:52:06 | 2338 次阅读

    2月15日,ASML发布2022年度财报。报告显示,ASML在2022年销售额达到212亿欧元,与2021年相比增长了13.8%,毛利率为49.7%。
    ASML总裁兼执行官Peter Wennink在年报中介绍,尽管2022年经历了很多动荡,但是ASML依旧取得了不错的成绩。预计到2025—2026 年,ASML将大幅提升产能,达到年产90台EUV(极紫外光)光刻机和600台DUV(深紫外光)光刻机。同时,在2027年到2028年,将增产20个高数值孔径EUV光刻机。
    年报中对ASML光刻设备做了详细介绍。年报显示,一代的EUV 0.33 NA光刻系统TWINSCAN NXE:3600D,与前代产品TWINSCAN NXE:3400C相比,生产率提高了15%~20%,覆盖率提高了约30%,同时还提高了系统可用性。EUV 0.55 NA是下一代EUV光刻系统,相比较于EUV 0.33 NA而言有更高的分辨率。该系统预计将于2025年首次部署,将在2025—2026年开始支持大批量生产。EUV 0.55 NA光刻系统TWINSCAN EXE:5000已经在2022年收到了采购订单,预计该系统未来将达到每小时220片晶圆的生产率。
    年报显示,2022年第三季度ASML推出了浸入式系统TWINSCAN NXT:2100i,该系统除了对透镜计量、光罩调节和晶圆表的内在改进以及对整体交叉匹配改进外,NXT:2100i还具有对准优化器12颜色包等创新。该系统能提供每小时295片晶圆的生产率,能够为3nm 及以下节点上的浸没层的提供成本效益的解决方案。在干式系统中,TWINSCAN NXT:1470双级ArF系统,可以打印分辨率低至220nm的图案,用于200mm和300mm晶圆生产,实现每小时330个晶圆的生产率。
关键词:EUV光刻机

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