MOS场效应管-电子资讯-维库电子市场网

半导体MIRAI项目的子项目组通过标准的MOS制造工艺（Gate-firstProcess，先加工栅极工艺）开发成功了等效氧化层厚度（EOT）为0.5nm的极薄型MOS场效应管（演讲序号20.2）。通过在栅叠层（GateStack）上使用高介电率（

分类：政策标准时间：2007/12/17 阅读：743 关键词：MOS

MOS场效应管即金属-氧化物-半导体型场效应管，英文缩写为MOSFET（Metal-Oxide-SemiconductorField-Effect-Transistor），属于绝缘栅型。其主要特点是在金属栅极与沟道之间有一层二氧化硅绝缘层，因此具有

分类：业界要闻时间：2007/1/15 阅读：4383 关键词：MOS

VMOS场效应管（VMOSFET）简称VMOS管或功率场效应管，其全称为V型槽MOS场效应管。它是继MOSFET之后新发展起来的高效、功率开关器件。它不仅继承了MOS场效应管输入阻抗高（≥108W）、驱动电流小（左右0.1μA左右），还具有耐压高（

分类：业界要闻时间：2006/11/21 阅读：2955