“能源解决方案是首诺公司的核心增长业务，预计收益将占公司成长业务的45%。”首诺公司亚太区副总裁刘和博士在5月6日上海SNEC第四届（2010）国际太阳能光伏展览会期间举行的新闻发布会上表示。首诺的首孚信业务部近期推出一款太阳能光伏...
分类：业界要闻 时间：2010/5/7 阅读：1039 关键词：太阳能
在led照明市场崛起、Oled照明的开发不断获得进步使得新一代照明备受关注的情况下，通过采用新材料提高性能，使其带有柔性从而开拓独特用途的尝试越来越多。位居“新材料”日文频道2009年新闻排行榜首位的是，白色led用SiAlON类荧光体材料...
分类：业界要闻 时间：2009/12/28 阅读：995 关键词：lead
冶炭纳米科技公司展现纳米研发实力，推出纳米导热胶专利产品，其导热能力比起一般传统导热胶效率提升了40％以上；冶炭纳米导热胶特色在于不导电、抗氧化、不变形等特性，可提供长期稳定的导热效果，是10W以上高功率LED照明新的散热解决方...
分类：业界要闻 时间：2009/10/28 阅读：1245 关键词：lead
据国外媒体报道，英特尔CEO欧德宁(PaulOtellini)近日表示，英特尔不久后将放弃硅材料，转而使用其他新材料制造处理器。欧德宁说，在处理器市场，硅材料即将被淘汰。英特尔最多还会生产三代的硅材料处理器，之后便使用新材料。欧德宁还透...
霍尼韦尔公司电子材料部日前宣布，公司推出了一种新型材料，可以提高光电(PV)板的效率和功率输出。这种被称为霍尼韦尔SOLARC的新产品是一种透明的涂层材料，可以提高光电板玻璃的透射率，从而提高PV模组的效率和功率输出。该涂层还能显著...
霍尼韦尔公司日前宣布其开发出一种新型热管理材料，该材料可以改善发光二极管(LED)的能耗，目前发光二极管(LED)正越来越多地用于路灯、车灯、平板电视显示器和计算机显示器等应用。新产品名为霍尼韦尔LTM6300-SP，是一种热界面材料，可高...
美国麻省理工学院(MIT)旗下军用纳米科技研究所(InstituteforSoldierNanotechnologies)的研究人员，将光纤(opticalfibers)结合半导体层与金属电极，做出了一种能纺织成布料的分布式相机镜头(distrib
分类：业界要闻 时间：2009/7/20 阅读：2411 关键词：MIT
清华大学材料系长江学者特聘教授周济随着各种新概念、新理论、新材料、新技术被用于无源元件领域，无源元件已经成为一个创新十分活跃的技术领域。近半个世纪以来，信息技术的高速发展改变着人类文明的进程，这在很大程度上得益于半导体器...
分类：业界要闻 时间：2009/6/24 阅读：700 关键词：电子元件
霍尼韦尔(Honeywell)公司电子材料部宣布，该公司开发出一款能够提高某些触控屏幕显示器速度、耐用性、功能性与节能性的新型材料。新型平坦化热稳定涂布材料HoneywellPTS，扩充了针对平板显示器的电子聚合物产品线。霍尼韦尔PTS材料是有机...
霍尼韦尔公司电子材料部日前宣布，能够提高某些触摸屏显示器的速度、耐用性、功能和能效的新型材料成功上市。新型的平坦化热稳定涂布材料，即霍尼韦尔PTS，扩充了针对平板显示器的电子聚合物产品线。“现在，电容触摸屏显示器的运用越来...
编辑点评：在谈及芯片技术进步时，除了不断缩小的技术节点，新材料的采用往往可以另辟蹊径。目前谈论较多的是高k介质、金属栅、低k材料等，其它一些较为冷门的材料，如碳纳米管、石墨稀、二嵌段共聚物等也开始进入人们的视野。越是新兴的...
分类：业界要闻 时间：2009/5/21 阅读：1849
4月23日上午，来自中国电池工业协会、清华大学、中南大学等科研院校的相关专家集聚娄底，对该市规划建设湖南红太阳电池新材料产业高科技园的可行性研究报告进行评审。专家评审的顺利通过，给娄底市快速发展高新技术产业注入一支强心剂。...
分类：业界要闻 时间：2009/4/30 阅读：210
4月14日，从乌鲁木齐市科技局传出消息，乌鲁木齐国家有色金属新材料产业化基地通过了国家科技部专家评审，这意味着新疆有色金属新材料产业在今后发展中将可获得国家在政策、资金、项目和技术上的支持。有色金属工业目前已成为新疆经济的...
分类：业界要闻 时间：2009/4/16 阅读：785
近日，美国西北太平洋国家实验室PNNL发现了一种新型蓝光OLED材料，能提升约25%的发光效率，同时能有效延长蓝光OLED的寿命。组成白光的三原色光红绿蓝中，蓝色OLED发光材料的寿命低于其它两种颜色。如何延长蓝光OLED的寿命一直是困扰OLED...
分类：名企新闻 时间：2009/3/25 阅读：1015 关键词：OLED
JSR与IBM就共同开发32/22nm节点半导体新材料达成协议
从事电子相关材料业务等的JSR子公司——美国JSRMicro与美国IBM就共同开发32nm工艺和22nm工艺半导体技术的新材料和工艺达成了合作协议。此次缔结协议的目的是，双方将把低介电率层间绝缘膜（low-k）材料和光阻材料（Photoresist
