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EUV

台积电在采用 EUV 光刻工具进行量产方面领先于英特尔，但在高 NA EUV 系统方面，该公司似乎落后于其美国竞争对手。据《电子时报》和《联合报》报道，英特尔已将其 ASML 高 ...

分类：业界动态时间：2024/9/11 阅读：175 关键词：台积电

Digitimes 报道称，台积电首部 High NA EUV 设备的购入价格远低于原定的 3.5 亿欧元（备注：当前约 27.55 亿元人民币）报价。　　据称，台积电之所以可以享受折扣，主要是...

分类：名企新闻时间：2024/9/10 阅读：218 关键词：台积电

三星电子半导体（DS）部门最早将于今年年底引进High NA极紫外（EUV）设备。除了下一代曝光设备之外，我们还在开发可以检查高数值孔径掩模的设备。看来他们正在积极从事技术...

分类：业界动态时间：2024/8/19 阅读：373 关键词：EUV光刻机

据《首尔经济日报》援引消息人士称，三星将于 2024 年第四季度至 2025 年第一季度开始安装其首台数值孔径 (High-NA) 为 0.55 的 EUV 光刻工具。该设备将主要用于研发目的...

分类：名企新闻时间：2024/8/16 阅读：404 关键词：三星

台积电董事长刘德华今年5月秘密拜访阿斯麦总部，洽谈购买下一代极紫外（EUV）光刻设备，尤其是对半导体制造技术进步至关重要的“高数值孔径（NA EUV）”设备。　　台湾《联...

分类：业界动态时间：2024/7/19 阅读：342 关键词：台积电 ASML

东京电子推出了 Acrevia，这是一款新型气体团簇光束 (GCB) 系统，专为细化 EUV 光刻创建的图案而设计。该工具采用低损伤表面处理，可用于多种用途，包括减少即将推出的节...

分类：业界动态时间：2024/7/10 阅读：291 关键词：EUV

随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外（EUV）光刻设备重要性日益提升，三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争夺也愈加激烈。　　此前一直犹豫是否采用下一代EUV设备的台积电CEO，放弃了内部重大活动，飞赴荷兰与ASML洽...

分类：业界动态时间：2024/5/28 阅读：262 关键词：EUV光刻

从相关报道看来，Hyper-NA EUV 和高生产力工具是 ASML 未来十年的主要目标。　　ASML 荣誉首席技术官 Martin van den Brink 分享了通用 EUV 平台的“愿景”，其中可能包括 ...

分类：业界动态时间：2024/5/23 阅读：379 关键词：ASML

三星电子正在深化与蔡司集团在下一代EUV和芯片技术方面的合作，蔡司集团是全球唯一的极紫外（EUV）光系统供应商ASML Holding NV的光学系统唯一供应商。　　三星执行董事长...

分类：业界动态时间：2024/4/29 阅读：638 关键词：三星

台积电表示，台湾于3日早晨经历里氏规模7.2级地震（过去25年来最强）。新竹、龙潭和竹南等科学园区的最大震度级为5，台中和台南科学园区的最大震度级则为4。　　台积公司在...

分类：业界动态时间：2024/4/7 阅读：271 关键词：晶圆

1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。　　这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...

基础电子时间：2018/5/28 阅读：1677