光刻机资讯-维库电子市场网【第8页】

据EETimes报道，欧洲研发机构IMEC首席运营官LucVandenHove表示，IMEC将在2010年上半年制成预投产EUV（极紫外）光刻设备。按照目前的进程，该设备将于2012年在IMEC的300mm生产线上投产。尽管对于EUV在商业制造中的

分类：行业趋势时间：2008/10/20 阅读：764 关键词：光刻机

SUSS——全球的三维、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商，于2008年10月7日宣布，其手动光刻机，外加一个纳米压印的组件，即可对大面积图形重复进行亚50纳米的压印。这项新技术名为“基板完整压印光刻”（SCIL），由荷兰埃因霍恩飞利浦...

时间：2008/10/13 阅读：472 关键词：光刻机

SUSSMicroTec——全球的三维集成、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商，于2008年10月1日推出第三代MA/BA8，这款手动双面对准光刻机包含专用于厚胶曝光的亚微米对准及曝光光学系统，具有高度的工艺灵活性。还可轻易升级为多种新兴技

分类：名企新闻时间：2008/10/10 阅读：455 关键词：光刻机

奥地利EVGroup（EVG）宣布，为形成手机用相机模块高耐热镜头，芬兰HeptagonOy采用了EVG的光刻机(MaskAligner)“IQAligner”。EVG副总裁HermannWaltl表示，Heptagon采用的是支持300mm晶

分类：名企新闻时间：2008/8/8 阅读：458 关键词：MEMS

上海微电子装备有限公司（SMEE）自主研发的SSB500/10A步进投影光刻机将在国内半导体封装线上实现商用。据悉，即将实现商用的SSB500/10A可满足200mm和300mm硅片的多种凸块后封装厚胶工艺需求。SSB500/10A采用高功率汞灯的

分类：业界要闻时间：2008/4/16 阅读：1687 关键词：光刻机

合肥经济开发区管委会对外宣布，具有水平、完全属于自主知识产权的国内台无掩膜式(直写式)“光刻机”在合肥研制成功，这标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。据介绍，光刻机项目之所以重大高端，是因为它是生产芯片的最关...

分类：行业趋势时间：2008/1/9 阅读：719 关键词：光刻机

Nikon在SEMICONJapan上推出的扫描场i-line步进式光刻机系列的产品NSR-SF155，功能“强大”，将应用于下一代存储器及微处理器制造过程中非关键层的量产工艺。吞吐能力强——通过采用Skyhook技术及增加载物台速度而降低了工

分类：名企新闻时间：2007/12/4 阅读：982 关键词：光刻机

英特尔在保证明年笔记本电脑将大量装备WiMax芯片组之后，正在采取进一步措施确保WiMax技术在日本的成功布署。英特尔近日与电信服务提供商KDDI结盟，以在日本推出WiMax网络。英特尔表示，已参加一个名为WirelessBroadbandPlan

分类：名企新闻时间：2007/10/15 阅读：1114 关键词：光刻机

MapperLithography公司日前表示，它已经在其用于高端芯片制造的多束无掩模光刻机的开发上取得了重要进展。该公司演示了它的产品能够实现批量并行电子束印刷，它的演示机上展示了45纳米密度模式（32纳米节点）和多个并行电子束。Mapper公...

分类：名企新闻时间：2007/10/15 阅读：541 关键词：光刻机

光刻机