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中芯1.2亿美元下单EUV光刻机

据知情人士透露,中国的晶圆代工厂中芯国际已经订购了一台EUV设备,在中美两国贸易紧张的情况下,此举旨在缩小与市场者的技术差距,确保关键设备的供应。EUV是当前半导体产业中也最昂贵的芯片制造设备。  中芯国际的首台EUV设备购自荷...

分类:名企新闻 时间:2018/5/17 阅读:467 关键词:中芯

日媒:中芯国际买了一台EUV光刻机,2019年交付

本新闻网站Nikkei Asian Review引述消息称,全球的芯片机器制造商、荷兰的阿斯麦(AMSL)证实,中国向荷兰订购一台型的使用EUV(极紫外线)技术的芯片制造机器光刻机,订货...

分类:业界动态 时间:2018/5/16 阅读:607 关键词:EUV光刻机中芯国际

华卓精科:中国光刻机零部件供应商

华卓精科:中国光刻机核心零部件供应商   华卓精科的核心战略产品是光刻机双工件台;其他整机设备包括激光退火、硅片堆叠、扫描干涉光刻机;零部...

分类:名企新闻 时间:2018/5/4 阅读:607

两家晶圆厂巨头抢EUV光刻机,ASML大挣特挣

《巴伦》报导,芯片设备供应商艾司摩尔ASML的表现,可能要比大多数人想像的要好,瑞士信贷分析师Farhan Ahmad即认为,艾司摩尔的产品是芯片制造商台积电与竞争对手三星电子( 005930-KR )争夺霸主地位的关键要素,估计可以在鹬蚌相争中,...

分类:业界动态 时间:2018/4/11 阅读:549 关键词:晶圆

ASML光刻机欠火候:c/GF 7nm EUV异常难产

不久前,高通宣布未来集成5G基带的骁龙芯片将基于三星的7nm制造,具体来说是7nm LPP,使用EUV(极紫外)技术。紧接着,三星就在华诚破土动工了一座新的7nm EUV工艺制造工厂,2020年之前要投产。看似风风火火,但其实7nm EUV依然面临着不...

分类:业界动态 时间:2018/3/1 阅读:401 关键词:7nm三星台积电

芯片制造环节中皇冠光刻机突破还要多少年

芯片制造环节中皇冠光刻机突破还要多少年   我国有两个大额进口产品,一个是石油,一个是芯片。这几年每年都超过2000亿美元。   这两样产品的几乎都控制在...

分类:业界要闻 时间:2018/1/31 阅读:745 关键词:芯片

7nm大战在即 买不到EUV光刻机的大陆厂商怎么办?

基于三星10nm制程工艺的骁龙835早已随着三星S8、小米6等一众手机面世,而基于台积电10nm制程工艺的联发科Helio X30也和魅族Pro 7系列手机一起亮相了。除此之外麒麟970及A11...

分类:业界动态 时间:2017/8/24 阅读:228 关键词:7nmEUV设备半导体制造

日本垮下的另一个半导体产业——光刻机

半导体业者都知道,光刻机是现代芯片制造不可或缺的重要组成。在很多年以前,日本巨头尼康和佳能在这个市场依然有很重要的地位的。但后来荷兰的ASML逐步将尼康打的毫无还手...

分类:业界动态 时间:2016/9/19 阅读:405 关键词:半导体光刻机

半导体业务重金止血 三星引入光刻机

产业链有传言称,台积电与苹果达成A10芯片供应协议。作为台积电的主要竞争对手,三星电子加快提升芯片工艺进程。据外媒KoreaTimes消息,三星电子在本月初派出包括一名执行副总裁在内的团队访问ASML总部,计划引进的NXE3400光刻机,为

分类:名企新闻 时间:2016/5/18 阅读:428 关键词:半导体光刻机

中国有了光刻机技术

对于普通人来说,光刻机或许是一个陌生的名词,但它却是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过光刻技术的锻造。记者13日从清华大学获悉,国家科技重大...

分类:业界要闻 时间:2016/5/16 阅读:296 关键词:光刻机

ASML TWINSCAN光刻机芯片制造刷新生产记录

ASML近日宣布,两位使用TWINSCAN光刻机的芯片制造商实现了生产新纪录,即在24小时内实现了超过4000片晶圆的处理。这个里程碑记录是在XT:870和XT:400上实现的,两家使用者为亚洲的不同客户。设备帮助他们提高了300mm光刻生产能力。

分类:名企新闻 时间:2010/12/3 阅读:547

沉浸式光刻机供货紧缺 台系内存芯片厂制程升级受阻

据内存业者透露,由于着名光刻设备厂商ASML生产的NXT:1950i沉浸式光刻机目前供货十分紧缺,因此台系内存芯片厂商收到所订购的这种设备的时间可能会再后延12个月之久,由于NXT:1950i沉浸式光刻机对这些厂商转移到38nm以上级别制程至关重要

分类:业界要闻 时间:2010/9/9 阅读:1342 关键词:光刻机

英特尔生产设备光刻机通关入区

日前,英特尔大连芯片厂核心生产设备顺利通关入区.这批重要生产设备的运抵标志着英特尔大连芯片厂的安装调试进入了新的关键阶段.此次入区的设备是应用于晶圆制造关键工艺环节的光刻设备.为确保设备及时安全入库,大连开发区管委会高度重视,...

分类:业界要闻 时间:2009/11/19 阅读:217 关键词:光刻机英特尔

SUSS MicroTec推出用于光刻机新型照明系统

SUSSMicroTec是的三维集成、MEMS、先进封装、纳米技术等设备方案的供应商。SUSS新推出了“MO曝光光学系统”(MOExposureOptics)。这是一种新型的照明系统,专为各类手动和自动的SUSS光刻机而设计。该光学系统基于独特

分类:名企新闻 时间:2009/6/5 阅读:907 关键词:光刻机照明系统

Mapper光刻机延期交货长达三月台积电制程研发或受影响

据海外媒体消息,台积电的光刻机供货商Mapper公司已将300mm光刻设备交货日延期近三个月之久。Mapper的多束电子束(e-beam)光刻机原计划于今年季度装备台积电300mm工厂,但由于技术上的原因Mapper公司拖延了交货日期,此举可能

分类:名企新闻 时间:2009/5/26 阅读:840 关键词:光刻机