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半导体巨头发布45nm高性能CMOS技术 与英特尔不同台积电未采用高k金属栅

据日经BP社报道,目前正在举行的IEDM大会上,备受关注的美国英特尔45nm工艺CMOS的发表在“AdvancedCMOSLogicandSoCPlatforms”会场举行。与此同时,台积电(TSMC)进行了45nm工艺CMOS的发表,均面向HP(

分类:名企新闻 时间:2007/12/19 阅读:193 关键词:CMOS半导体高性能英特尔

KLA-Tencor推出45nm节点晶片几何度量解决方案

KLA-Tencor公司推出了WaferSight2,这是个让晶片供应商和芯片制造商能够以45nm及更小尺寸所要求的高精度和工具匹配度,在单一系统中度量裸晶片平面度、形状、卷边及纳米形貌的度量系统。凭借的平面度和纳米形貌测量精度,加之更高的

分类:名企新闻 时间:2007/12/19 阅读:713

富士通发布首批45nm迅驰笔记本

富士通公司今天发布针对日本本土市场的新款笔记本电脑系列,其中多款型号标注采用“未发布Intel”处理器,联系到这些型号的上市日期均为明年1月,几乎可以肯定的说,它们将采用Intel明年年初发布的45nmPenryn核心移动处理器。其中最引人...

分类:名企新闻 时间:2007/12/18 阅读:629 关键词:笔记本富士通

意法半导体(ST)公布65nm硬盘驱动器迭代解码通道模块样品

意法半导体推出了该公司首款65nm制造技术的低功耗移动硬盘驱动器(HDD)迭代读通道模块样品。ST的迭代通道信噪比(SNR)增益是硬盘驱动器市场保持存储容量年复合增长率高达40%的关键技术。虽然迭代技术的复杂性提高了,ST仍把功耗降低了25%以...

分类:新品快报 时间:2007/12/18 阅读:497 关键词:半导体驱动器

松下商用45nm芯片首度瞄准大众消费市场

松下电器正在其Diga系列的蓝光光盘录像机中使用商用的45nm芯片,这些贴着Panasonic商标的光盘刻录机已经开始付运。据松下电器介绍,其版本的UniPhier(高质量图像增强技术通用平台)芯片,将成为采用45nm工艺技术用来满足大众消

分类:名企新闻 时间:2007/12/18 阅读:418

KLA-Tencor 推出达到关键性45nm晶片几何度量要求的完整度量解决方案

KLA-Tencor公司12月14日推出了WaferSight2,这是半导体行业中个让晶片供应商和芯片制造商能够以45nm及更小尺寸所要求的高精度和工具匹配度,在单一系统中度量裸晶片平面度、形状、卷边及纳米形貌的度量系统。凭借业界的平面度和

分类:新品快报 时间:2007/12/17 阅读:950

NEC电子开发出基于铜通孔的熔丝技术 将首先从55nm工艺开始导入

NEC电子开发出了采用铜通孔(用于连接铜布线)的熔丝技术(演讲序号2.5)。NEC电子计划将该技术导入07年年底开始量产的55nm工艺LSI中,促进制造成品率的提高。由于该项技术“可用于多种工艺”(NEC电子执行董事福间雅夫),因此还计划将...

分类:名企新闻 时间:2007/12/17 阅读:969 关键词:NEC

MIRAI使用标准工艺开发出等效氧化层厚0.5nm的MOS场效应管

半导体MIRAI项目的子项目组通过标准的MOS制造工艺(Gate-firstProcess,先加工栅极工艺)开发成功了等效氧化层厚度(EOT)为0.5nm的极薄型MOS场效应管(演讲序号20.2)。通过在栅叠层(GateStack)上使用高介电率(

分类:政策标准 时间:2007/12/17 阅读:677 关键词:MOS

英特尔和台积电发布45nm工艺高性能CMOS

会议第二天下午,在3个会场上进行了高介电率(high-k)绝缘膜与金属栅极(MGHK:metalgate/high-k)相关的发表。备受关注的美国英特尔45nm工艺CMOS的发表在“AdvancedCMOSLogicandSoCPlatforms”

分类:名企新闻 时间:2007/12/17 阅读:126 关键词:CMOS高性能英特尔

KLA-Tencor推出达到关键性45nm晶片几何度量要求的完整度量解决方案

KLA-Tencor公司推出了WaferSight2,这是半导体行业中个让晶片供应商和芯片制造商能够以45nm及更小尺寸所要求的高精度和工具匹配度,在单一系统中度量裸晶片平面度、形状、卷边及纳米形貌的度量系统。凭借业界的平面度和纳米形貌测量

分类:新品快报 时间:2007/12/17 阅读:784

ST公布65nm硬盘驱动器迭代解码通道模块样品

意法半导体推出了该公司首款65nm制造技术的低功耗移动硬盘驱动器(HDD)迭代读通道模块样品。ST的迭代通道信噪比(SNR)增益是硬盘驱动器市场保持存储容量年复合增长率高达40%的关键技术。虽然迭代技术的复杂性提高了,ST仍把功耗降低了2...

分类:新品快报 时间:2007/12/17 阅读:548 关键词:驱动器

张妆京:中芯国际已实现45nm制程工艺

日前,中芯国际董事长兼首席执行张汝京在上海表示:随着上海12英寸芯片生产线—中芯国际八厂成功投产并进入正式运营阶段,国内集成电路芯片代工企业已具备了45纳米芯片制程能力。中芯国际上海12英寸芯片生产线项目于2005年10月开工建设,...

分类:行业访谈 时间:2007/12/15 阅读:1182

张汝京:国内已具备45nm芯片生产能力

日前,中芯国际董事长兼首席执行张汝京在上海表示:随着上海12英寸芯片生产线—中芯国际八厂成功投产并进入正式运营阶段,国内集成电路芯片代工企业已具备了45纳米芯片制程能力。中芯国际上海12英寸芯片生产线项目于2005年10月开工建设,...

分类:行业访谈 时间:2007/12/14 阅读:562

Veeco推出INSIGHT三维原子力显微镜 为45nm以下工艺带来高效精准测量技术

VeecoInstruments公司宣布推出InSight(TM)3D自动原子力显微镜(AFM)平台,为45nm和32nm的半导体工艺带来了非破坏性、高分辨率的快速测量方法。InSight3DAFM专为量产环境中关键尺寸(CD)、厚度和CMP的

分类:新品快报 时间:2007/12/14 阅读:1020 关键词:原子力显微镜

意法半导体系统级芯片向45nm CMOS射频技术升级

半导体制造商和无线通信芯片供应商的意法半导体(ST)日前宣布该公司成功地制造出了批采用CMOS45nm射频(RF)制造技术的功能芯片。这项技术对于下一代无线局域网(WLAN)应用产品至关重要。这些系统级芯片(SoC)是在ST的法国Crolles

分类:名企新闻 时间:2007/12/14 阅读:666 关键词:CMOS半导体