小米在北京举办年度旗舰发布会，德国莱茵TUV集团（以下简称：TUV莱茵）以其独有的安全快充2.0技术（Safety Fast-Charge System 2.0）为小米9手机护航，让消费者享受更安全、更高质量的续航升级体验。 小米9获TUV莱茵安全快充2.0认证 ...
德国莱茵TUV集团（以下简称“TUV莱茵”）为欣灵电气股份有限公司（以下简称“欣灵电气”）下属的浙江新控电气科技有限公司（以下简称“浙江新控”），颁发了TUV莱茵全球首张符合EN 60947-6-2:2003+A1标准的控制与保护开关电器（CPS）型式...
德国副议长访佛山机器人学院 TUV莱茵受邀共议中德数字化发展
2019年4月18日，德国莱茵TUV集团（以下简称“TUV莱茵”）受邀陪同德国联邦副议长Dr.Hans-Peter Friedrich代表团访问佛山中德机器人学院有限责任公司（以下简称“佛山机器人学院”），并出席由佛山机器人学院举办的数字化发展圆桌会议。全...
分类：名企新闻 时间：2019/5/31 阅读：1069 关键词：TUV莱茵
近日，德国莱茵TUV集团 (以下简称“TUV莱茵”)向惠普发布的AMOLED 屏笔记本电脑（Spectre x360 15）颁发了低蓝光认证证书。这是全球首款搭载AMOLED 屏的笔记本电脑，可降低有害蓝光，减少长时间使用造成的眼部不适感。同时还具备广色域和...
分类：名企新闻 时间：2019/5/31 阅读：1446 关键词：AMOLED屏
深圳2019年5月25日 /美通社/ -- 5月23日-24日，2019蓝牙亚洲大会在深圳会展中心举行，2500多位业界重要人士、开发者、技术驱动型创新者及蓝牙技术联盟（Bluetooth SIG）代表共聚一堂，就蓝牙技术在智能家居、智能楼宇和智慧城市等新兴市...
分类：名企新闻 时间：2019/5/31 阅读：870 关键词：蓝牙
台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电次、也是行业次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡，也Intel、三星一大步。 台积电表示，7nm+ EVU工艺的良品率已经提高到和初代7nm同样的水平，将今年带动7nm工艺芯片的产能显...
台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电次、也是行业次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡，也Intel、三星一大步。 台积电表示，7nm+ EUV工艺的良品率...
业内首款7-nm EUV工艺的AP来了！三星电子将于4月30日发布
据BusinessKorea报道，三星电子将于4月30日推出业界首款采用7纳米（nm）超紫外（EUV）工艺生产的应用处理器（AP）。该公司计划在今年下半年发布的Galaxy Note 10中安装AP。 业内首款7-nm EUV工艺的AP来了！三星电子将于4月30日发布 ...
台积电(TSMC)和三星(Samsung)本周发布了竞争公告，继续提高FinFET芯片市场份额的竞争标准。 本周三星宣布 5nm EUV已准备好与PDK，EDA工具，IP和MPW配合使用。三星已经准备好14nm，11nm，10nm，8nm，7nm EUV和6nm EUV生产。三星的5nm F...
据businesskorea报道，三星电子将于今年6月开始大规模生产7纳米(nm)极紫外(EUV)芯片。 三星电子计划在6月份推出Exynos 9825，这是一款应用处理器(AP)，采用7纳米EUV工艺...
台积电vs三星 7纳米EUV芯片量产首发花落谁家？| 三星将在6月量产7纳米EVU芯片
三星电子将于6月开始批量生产7纳米EUV芯片，这可能会是EUV批量芯片在全球半导体行业的首次亮相。 三星电子计划于6月推出Exynos 9825，这是一款采用7纳米EUV工艺制造的应...
分类：业界动态 时间：2019/4/13 阅读：613 关键词：EUV芯片
进入10nm节点之后，全球只剩下英特尔、台积电及三星三大半导体公司有能力跟进，代工厂的选择只有台积电、三星两家，其中台积电几乎拿下了大部分7nm芯片订单，客户包括苹果、华为、AMD、高通、联发科等半导体公司。在7nm工艺上，三星没有...
三星6月推Exynos 9825处理器：7nm EUV，用于Galaxy Note 10
进入10nm节点之后，全球只剩下英特尔、台积电及三星三大半导体公司有能力跟进，代工厂的选择只有台积电、三星两家，其中台积电几乎拿下了大部分7nm芯片订单，客户包括苹果...
分类：新品快报 时间：2019/4/11 阅读：1109
据悉，由于《水俣汞防治公约》（Minamata Convention on Mercury）将于2020年生效，届时将会禁止含汞产品的生产、出口和进口，用于消毒灭菌等应用的UV-C LED模块的需求很可...
分类：行业趋势 时间：2019/4/10 阅读：733 关键词： LED需求
光刻是芯片制造技术的主要环节之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻机进行的。但是193nm的光刻技术依然无法支撑40nm以下的工艺生产，为了突破工艺极限，厂商不得不将19...
分类：业界动态 时间：2019/4/3 阅读：1455 关键词：光刻机
