在2006年半导体设备展(Semicon)中，KLA-Tencor推出其Puma系列的一代Puma 91xx暗视野图样晶圆检测系统，据称生产能力可较前一代Puma 9000系统提高两倍，并维持相同甚至更良好的灵敏度。该公司声称，这套设备主要针对65纳米节点，但它将同样适用于45纳米节点，能保障客户的投资。
KLA-Tencor产品营销总监Matthew McLaren指出，每一代制程都需要大量的研发资金挹注，从130、90、65到45纳米节点，每一世代的研发成本几乎呈倍数成长，因此能现场升级并延用相同操作接口以缩短工程师学习时间的设备，将为晶圆厂带来更大利润。
McLaren表示，为因应愈来愈巨大的投资成本，IC制造商必须由设备中撷取利益，为符合此需求，即使在广泛的制程层面上，检测工具仍然必须能够同时提供可发挥成本与效能的缺陷监控能力，而Puma 91xx系列则能满足这些需求。他透露，目前已经有多家逻辑、DRAM及闪存晶圆厂采用Puma 91xx系列，另外，现有的Puma 9000系统安装平台也能现场升级到91xx系列效能等级。
在提升生产能力方面，KLA-Tencor台湾分公司总经理表示，以DRAM为例，在2002年时，周期时间(cycle time)约为52天，但到了2006年则缩短至25天，显示产品快速上市的压力正在改变整个产业生态。为提升制造能力，Puma采用了KLA-Tencor的快速适应单一启始值(Fast Adaptive Single Threshold，FAST)算法，大幅减化了Puma应用设定的程序，从而减少了建立与调整应用条件时所需要的参数数目，与先前的算法相比，减少幅度接近80%。
此外，该公司还提供inline Defect Organizer(iDO)分级处理解决方案，以实现缺陷分类法，这将能快速确认产生缺陷的根本原因。Puma 91xx系列与KLA-Tencor的23xx/28xx明视野检测设备和eS3x电束检测工具皆可通用，因此在平台之间可进行配方共享，不仅能化检测设备产量，也能加速检测设备整合到适化的生产能量。
而在灵敏度方面，Puma 91xx系列整合了KLA-Tencor专有的Streak多重画素传感器以及线性扫描技术，达成高分辨率的暗视野成像检测。该公司表示，以声光折射组件(AOD)与光电增倍管(PMT)技术为基础的暗视野系统在速度与灵敏度上会受到限制，但是在Puma 91xx系列中则不会发生。
