Mentor Graphics成功在上海举办EDA Tech Forum 2008

类别:其他  出处:网络整理  发布于:2008-10-13 11:26:35 | 622 次阅读

  由Mentor Graphics举办的EDA Tech Forum 2008上海站日前成功举行,会上Mentor Graphics介绍了电子系统设计领域的信息、公司完整的解决方案,工程师们与电子设计业界面对面互动交流,并通过现场实机展示,亲自体验了Mentor Graphics的产品。Mentor Graphics董事会主席、CEO Walden Rhines在主题演讲中表示,随着测试成本的增加,可测试设计在未来的IC设计活动中将具有突出地位,在设计工程师中会有25%为测试人员。

  300多位与会者分享了Mentor Graphics从ESL到Silicon完整的设计方案,让工程师有效克服越趋复杂的设计挑战,缩短设计时程以加速产品上市时间;针对系统设计端客户提供更简便的操作接口,让PCB解决方案提升客户生产力;而更多针对布局绕线(P&R)实体功能验证、可测试性设计(DFT)、混合讯号(AMS)、可制造性设计(DFT)等各种设计问题,协助工程师设计出高效能、低功率的芯片和系统。

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