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英飞凌IGBT-IHW30N60T

英飞凌IGBT-IHW30N60T
英飞凌IGBT-IHW30N60T
  • 品牌:

    INFINEON/英飞凌

  • 型号:

    TRENCHSTOP? 2-20kHz

普通会员
  • 企业名:華星(香港)股份有限公司

    类型:商业服务

    电话:

    联系人:劉長貴

    地址:广东深圳高新技术开发区科技园南山区让俞路5号

商品信息

品牌/商标 INFINEON/英飞凌 型号/规格 TRENCHSTOP? 2-20kHz
种类 *缘栅(MOSFET) 沟道类型 N沟道
导电方式 增强型 用途 MOS-HBM/半桥组件
封装外形 P-DIT/塑料双列直插 材料 IGBT*缘栅比*
开启电压 5(V) 夹断电压 5(V)
低频跨导 5(μS) *间电容 5(pF)
低频噪声系数 5(dB) *大漏*电流 5(mA)
*大耗散功率 550000(mW)

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原理定义:
    IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor),*缘栅双*型晶体管,是由BJT(双*型三*管)和MOS(*缘栅型场效应管)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件, 兼有MOSFET的高输入阻*和GTR的低导通压降两方面的优点。GTR饱和压降低,载流密度大,但驱动电流较大;MOSFET驱动功率很小,开关速度快,但导通压降大,载流密度小。IGBT综合了以上两种器件的优点,驱动功率小而饱和压降低。*适合应用于直流电压为600V及以上的变流系统如交流电机、变频器、开关电源、照明电路、牵引传动等领域。

   IGBT 的开关作用是通过加正向栅*电压形成沟道,给PNP 晶体管提供基*电流,使IGBT 导通。反之,加反向门*电压消除沟道,切断基*电流,使IGBT 关断。IGBT 的驱动方法和MOSFET 基本相同,*控制输入*N一沟道MOSFET ,所以具有高输入阻*特性。当MOSFET 的沟道形成后,从P+ 基*注入到N 一层的空穴(少子),对N 一层进行电导调制,减小N 一层的电阻,使IGBT 在高电压时,也具有低的通态电压。

 

静态特性:
  IGBT 的静态特性主要有伏安特性、转移特性和开关特性。
  IGBT 的伏安特性是指以栅源电压Ugs 为参变量时,漏*电流与栅*电压之间的关系曲线。输出漏*电流比受栅源电压Ugs 的控制,Ugs 越高, Id 越大。它与GTR 的输出特性相似.也可分为饱和区1 、放大区2 和击穿特性3 部分。在截止状态下的IGBT ,正向电压由J2 结承担,反向电压由J1结承担。如果无N+ 缓冲区,则正反向阻断电压可以做到同样水平,加入N+缓冲区后,反向关断电压只能*几十伏水平,因此限制了IGBT 的某些应用范围。
  IGBT 的转移特性是指输出漏*电流Id 与栅源电压Ugs 之间的关系曲线。它与MOSFET 的转移特性相同,当栅源电压小于开启电压Ugs(th) 时,IGBT 处于关断状态。在IGBT 导通后的大部分漏*电流范围内, Id 与Ugs呈线性关系。*高栅源电压受*大漏*电流限制,其*佳值一般取为15V左右。


动态特性:
  IGBT 在开通过程中,大部分时间是作为MOSFET 来运行的,只是在漏源电压Uds 下降过程后期, PNP 晶体管由放大区至饱和,又增加了一段延迟时间。td(on) 为开通延迟时间, tri 为电流上升时间。实际应用中常给出的漏*电流开通时间ton 即为td (on) tri 之和。漏源电压的下降时间由tfe1 和tfe2 组成。
  IGBT的触发和关断要求给其栅*和基*之间加上正向电压和负向电压,栅*电压可由不同的驱动电路产生。当选择这些驱动电路时,*须基于以下的参数来进行:器件关断偏置的要求、栅*电荷的要求、耐固性要求和电源的情况。因为IGBT栅*- 发射*阻*大,故可使用MOSFET驱动技术进行触发,不过由于IGBT的输入电容较MOSFET为大,故IGBT的关断偏压应该比许多MOSFET驱动电路提供的偏压更高。
  IGBT的开关速度低于MOSFET,但明显高于GTR。IGBT在关断时不需要负栅压来减少关断时间,但关断时间随栅*和发射*并联电阻的增加而增加。IGBT的开启电压约3~4V,和MOSFET相当。IGBT导通时的饱和压降比MOSFET低而和GTR接近,饱和压降随栅*电压的增加而降低。
  正式商用的IGBT器件的电压和电流容量还很有限,远远不能满足电力电子应用技术发展的需求;高压领域的许多应用中,要求器件的电压等级*10KV以上,目前只能通过IGBT高压串联等技术来实现高压应用。国外的一些厂家如瑞士ABB公司采用软穿通原则研制出了8KV的IGBT器件,德国的EUPEC生产的6500V/600A高压大功率IGBT器件已经获得实际应用,日本东芝也已涉足该领域。与此同时,各大半导体生产厂商不断开发IGBT的高耐压、大电流、*、低饱和压降、高*性、*技术,主要采用1um以下制作工艺,研制开发取得一些新进展。

联系方式

企业名:華星(香港)股份有限公司

类型:商业服务

电话:

联系人:劉長貴

地址:广东深圳高新技术开发区科技园南山区让俞路5号

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