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IDM的趋向转化代工面临工艺技术困境

随着IDM越来越多的趋向转化为fablite或者fabless的策略,所以全球代工的业务得以不断的扩大。对于许多IDM由于fab、工艺研发及设备的成本日益高耸,都面临生存的问题。目前来看只有很少的工厂有能力再建新的fab,到了下一代450mm硅片时

分类:行业趋势 时间:2009/12/17 阅读:808 关键词:IDM

安森美推出0.18微米CMOS工艺技术 扩展定制晶圆代工能力

全球的高性能、高能效硅方案供应商安森美半导体(ONSemiconductor)扩展定制晶圆代工能力,推出新的具价格竞争力、符合业界标准的0.18微米(μm)CMOS工艺技术。这ONC18工艺是开发低功率及高集成度数字及混合信号专用集成电路(AS

分类:新品快报 时间:2009/10/13 阅读:280 关键词:CMOS

富士通微电子与台积电合作发展28纳米工艺技术

日本富士通微电子株式会社与台湾积体电路制造股份有限公司27日宣布,双方同意以台积电先进的技术平台为基础,针对富士通微电子的28纳米逻辑IC产品进行生产、共同开发并强化28纳米高效能工艺。在这之前,富士通微电子与台积电已经就40纳米...

分类:名企新闻 时间:2009/8/28 阅读:775 关键词:富士通微电子

Intersil推出双极工艺技术的运算放大器ISL28207

Intersil公司宣布,推出首款采用该公司新的专利双极工艺技术的运算放大器---ISL28207。Intersil的ISL28207是双40V低功耗双极精密运算放大器,具有出色的直流精度和极好的温漂性能。器件的偏置电压低至75μV,典型输入偏

分类:新品快报 时间:2009/8/24 阅读:195 关键词:Intersil放大器

Intersil发布采用双极工艺技术的运算放大器ISL28207

Intersil公司日前宣布,推出首款采用该公司新的专利双极工艺技术的运算放大器——ISL28207。Intersil的ISL28207是双40V低功耗双极精密运算放大器,具有出色的直流精度和极好的温漂性能。器件的偏置电压低至75μV,典型输入

分类:新品快报 时间:2009/8/21 阅读:1104 关键词:Intersil放大器

三星发布采用45nm工艺技术的应用处理器

日前,韩国三星电子发布了采用45nm低功耗CMOS工艺技术的应用处理器“S5P6440”。其特点是图形性能高、功耗及成本低等。适用于PND等家电产品。该处理器配备有英国ARM工作频率533MHz或667MHz的CPU内核“ARM1176”。CPU内

分类:名企新闻 时间:2009/7/6 阅读:1149 关键词:处理器

Micron采用34nm工艺技术NAND闪存芯片实现量产

近日,MicronTechnology宣布NAND闪存芯片实现量产采用34nm工艺技术。还称其子公司LexarMedia将推出34nm闪存卡和USB闪盘。Micron和其伙伴Intel近期宣布通过合资公司IMFlash推出34nm芯片。Micron

分类:名企新闻 时间:2009/7/2 阅读:836 关键词:NAND

中芯与常忆共同推出0.18微米嵌入式闪存工艺技术

中芯国际集成电路制造有限公司与非易失性内存产品和IP供应商常忆科技日前共同宣布,已成功推出中芯国际0.18微米嵌入式闪存工艺技术和IP組合包。基于常忆科技第三代2TPMOSflash(pFLASH)单元结构专利,中芯国际的0.18微米嵌入式快闪记忆

分类:名企新闻 时间:2009/6/3 阅读:731

中芯国际和常忆科技推出0.18微米嵌入式闪存工艺技术和IP包

中芯国际集成电路制造有限公司(“中芯国际”)与的非易失性内存产品和IP供应商常忆科技日前共同宣布,已成功推出中芯国际0.18微米嵌入式闪存工艺技术和IP組合包。基于常忆科技第三代2TPMOSflash(pFLASH(TM))单元结构专利,中芯国

分类:名企新闻 时间:2009/6/2 阅读:726

富士通微电子株式会社与台积电将在先进工艺技术上建立合作

日本富士通微电子株式会社与台湾积体电路制造股份有限公司30日宣布双方将在先进工艺技术生产上建立合作,并为富士通微电子制造产品。根据二家公司的协议,富士通微电子将扩展其40纳米逻辑芯片世代至台积公司生产。这项先进技术的合作将富...

分类:名企新闻 时间:2009/5/4 阅读:862 关键词:富士通微电子株式会社

AMD拆分工厂启动32/28nm工艺技术项目

大约在一个月前,Globalfoundries正式开始了半导体代工业务。而为了吸引到更多的用户,这家AMD的前生产工厂选择推出了极具侵略性的先进生产工艺技术。比如今年,Globalfoundries计划将会开始使用32nm的生产工艺以满足图形处

分类:名企新闻 时间:2009/4/16 阅读:711 关键词:28nmAMD

伊拉克政府引进德国太阳能公司先进工艺技术

为了尽快恢复因长期政局动荡而引发的经济衰退,伊拉克政府决定依靠引进先进工艺技术,如太阳能发电,来解决经济危机。由于伊拉克的公共电网设施简陋,因此离网太阳能发电技术对整个城市来说尤为重要。为此,伊拉克电力部主任及五名工程师...

分类:业界要闻 时间:2009/2/10 阅读:100 关键词:太阳能

韩国MagnaChip开始提供0.18μm及0.35μm的BCD工艺技术

据日经BP社报道,韩国MagnaChipSemiconductor日前宣布,开发出了0.18μm及0.35μm的aBCD(advancedbipolarCMOSDMOS)制造工艺,并可向代工企业提供。准备了2种节点工艺,可用于更多设备的制造。aBC

分类:名企新闻 时间:2008/12/6 阅读:1384

Axiom Microdevices推出AX508功率放大器采用CMOS工艺技术

AxiomMicrodevices有限公司日前宣布推出AX508功率放大器(PA),继续扩大它的产品供应版图,将CMOS的全部优点带给客户。AX508采用主流的CMOS工艺技术,在单一集成电路(IC)上集成了四频GSM/GPRS的功能。相对于该公司

分类:名企新闻 时间:2008/12/3 阅读:266 关键词:功率放大器

美国政府批准提供技术中国SMIC启动32nm工艺技术开发

中芯国际集成电路制造(SMIC)将从2009年1月正式启动32nm工艺技术的开发。开发得以启动的原因是美国政府批准向SMIC提供32nm工艺技术。在得到美国政府许可后,SMIC将在该公司拥有技术的全部工厂启动32nm逻辑工艺的开发。并且,该公司

分类:业界要闻 时间:2008/11/5 阅读:845