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台积电宣布已采购 ASML 最先进 EUV 光刻机

台积电董事长魏哲家首度证实,台积电已经采购了 ASML 最新的 High - NA EUV(高数值孔径极紫外光)设备,这一举措是为了提前布局 A14 及更先进的制程。  对于市场一直关...

分类:名企新闻 时间:2026/6/5 阅读:6992 关键词:台积电

美国斥资10亿,颠覆EUV光刻

致力于打造全球最强激光器的美国公司xLight今日宣布,已与美国商务部和国家标准与技术研究院(NIST)签署最终协议,根据《芯片与科学法案》(CHIPS and Science Act)获得1.5亿...

分类:业界动态 时间:2026/6/3 阅读:7849 关键词:EUV光刻

三星电子豪购20台EUV光刻机 加速1c DRAM与HBM4产能布局

全球半导体巨头三星电子近日宣布向ASML订购约20台极紫外(EUV)光刻机,总价值高达34亿美元,展现出其在先进制程领域的雄心壮志。这批设备将主要用于提升10纳米级第六代DRAM...

分类:业界要闻 时间:2026/4/7 阅读:38597

阿斯麦EUV光源突破:2030年芯片产能将暴涨50%背后的技术革命

一台机器的光源功率提升,竟能让全球芯片产能飙升50%?这不是科幻小说的情节,而是阿斯麦最新公布的技术突破。这家全球唯一的EUV光刻机制造商用一项关键创新,再次改写了半导体行业的游戏规则。EUV光源功率突破1000瓦大关在加州圣迭戈的...

分类:业界动态 时间:2026/2/24 阅读:5788

Imec突破性技术:EUV光刻实现晶圆级固态纳米孔制造

2025年12月10日,比利时鲁汶传来重大科技突破——Imec首次成功采用EUV光刻技术在300毫米晶圆上实现了晶圆级固态纳米孔的规模化制造。这项革命性技术将彻底改变生物传感领域的格局,为基因组学和蛋白质组学研究带来全新可能。  纳米孔技...

分类:业界动态 时间:2025/12/10 阅读:12218

2026 年起,EUV 光刻胶市场开启快速增长模式

富士经济于 2025 年 8 月针对半导体制造工序中使用的 “液体过滤器” 全球市场展开调查,并发布了直至 2030 年的市场预测。此次调查为半导体产业的发展态势提供了重要参考...

分类:行业趋势 时间:2025/8/26 阅读:1771 关键词:EUV 光刻胶

ASML世界最先进EUV光刻机只卖了5台!Intel:光刻没那么重要了

光刻机领域的巨头 ASML 向 Intel 交付了首套高数值孔径 High - NA EUV 光刻机,型号为 TWINSCAN EXE:5000。在当时,业界普遍对这款光刻机寄予厚望,认为 High - NA EUV 将...

分类:业界动态 时间:2025/7/5 阅读:610 关键词:EUV光刻机

英特尔董事:新型晶体管设计或减少芯片制造对 EUV 光刻机依赖

在芯片制造领域,一直以来先进光刻设备都占据着核心地位。然而,英特尔一位董事提出了一个颇具挑战性的观点,他认为未来晶体管设计,如环绕栅极场效应晶体管(GAAFET)和互补场效应晶体管(CFET),可能会降低芯片制造对先进光刻设备,尤...

分类:名企新闻 时间:2025/6/20 阅读:393 关键词:晶体管

EUV光刻机,要过七关

如何粉碎一块薄饼?这个问题困扰着阿姆斯特丹纳米光刻高级研究中心 (ARCNL) 的研究员迪翁·恩格尔斯 (Dion Engels)。  这里所说的薄饼指的是被粉碎的锡滴,它在 ASML 的光刻机中每秒被引爆五万次。这会产生等离子体,发射出极紫外 (EUV...

分类:业界动态 时间:2025/6/17 阅读:507 关键词:EUV光刻机

4 亿美元 ASML 高 NA EUV 光刻机,台积电持谨慎态度

在半导体制造领域,光刻机技术一直是关键的竞争焦点。近期,ASML 推出的高数值孔径(NA)EUV 光刻机备受关注,但台积电却表现出了谨慎的态度。  ASML 的这台高数值孔径 E...

分类:业界动态 时间:2025/6/9 阅读:555 关键词:台积电

EUV技术

一文读懂半导体业的印钞机——EUV光刻机

1965年,戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。  这个不断触碰半导体工艺极限的定律,也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...

基础电子 时间:2018/5/28 阅读:2133

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