随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外（EUV）光刻设备重要性日益提升，三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争夺也愈加激烈。 此前一直犹豫是否采用下一代EUV设备的台积电CEO，放弃了内部重大活动，飞赴荷兰与ASML洽...
分类：业界动态 时间：2024/5/28 阅读：233 关键词：EUV光刻
从相关报道看来，Hyper-NA EUV 和高生产力工具是 ASML 未来十年的主要目标。 ASML 荣誉首席技术官 Martin van den Brink 分享了通用 EUV 平台的“愿景”，其中可能包括 ...
分类：业界动态 时间：2024/5/23 阅读：342 关键词：ASML
三星电子正在深化与蔡司集团在下一代EUV和芯片技术方面的合作，蔡司集团是全球唯一的极紫外（EUV）光系统供应商ASML Holding NV的光学系统唯一供应商。 三星执行董事长...
分类：业界动态 时间：2024/4/29 阅读：582 关键词：三星
台积电表示，台湾于3日早晨经历里氏规模7.2级地震（过去25年来最强）。新竹、龙潭和竹南等科学园区的最大震度级为5，台中和台南科学园区的最大震度级则为4。 台积公司在...
分类：业界动态 时间：2024/4/7 阅读：246 关键词：晶圆
据路透社报道，ASML 和英特尔本周表示，后者通过打开光源并使光到达晶圆上的光刻胶，利用 ASML 的高数值孔径光刻系统实现了一个重要的里程碑。这表明光源和镜子已正确对齐...
分类：业界动态 时间：2024/2/29 阅读：313 关键词：光刻机
本周，在 2024 年先进光刻 + 图案化会议上，全球领先的纳米电子和数字技术研究与创新中心 IMEC 将展示 EUV 工艺、掩模和为实现高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻而准...
分类：业界动态 时间：2024/2/27 阅读：407 关键词：光刻机
ASML 首台量产高数值孔径 EUV 机器的首批主要部件已交付至英特尔俄勒冈州开发工厂。英特尔预计到明年年底将收到六台机器， ASML 昨天在 Twitter 上表示：“我们很高兴也...
据相关报道，ASML Holding NV表示，它开始向英特尔公司运送其第一台最新芯片制造机的主要部件。 据不愿透露姓名的知情人士透露，这套名为高数值孔径极紫外线的最先进系...
分类：业界动态 时间：2023/12/22 阅读：594
Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功开发出一种光掩膜制造工艺，能够适应3纳米（10-9米）光刻工艺，以支持半导体制造的尖端工艺——极紫外(EUV)光刻。...
分类：新品快报 时间：2023/12/13 阅读：333 关键词：EUV光刻
据韩国贸易、工业和能源部周二称，三星电子和 ASML 同意共同投资 1 万亿韩元（7.62 亿美元）在韩国建设一座研究工厂，以开发使用极紫外 (EUV) 设备的尖端半导体制造技术。...
分类：业界动态 时间：2023/12/13 阅读：433 关键词：EUV光刻
1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。 这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...
基础电子 时间：2018/5/28 阅读：1626
