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2025年12月10日，比利时鲁汶传来重大科技突破——Imec首次成功采用EUV光刻技术在300毫米晶圆上实现了晶圆级固态纳米孔的规模化制造。这项革命性技术将彻底改变生物传感领域的格局，为基因组学和蛋白质组学研究带来全新可能。　　纳米孔技...

分类：业界动态时间：2025/12/10 阅读：12134

富士经济于 2025 年 8 月针对半导体制造工序中使用的 “液体过滤器” 全球市场展开调查，并发布了直至 2030 年的市场预测。此次调查为半导体产业的发展态势提供了重要参考...

分类：行业趋势时间：2025/8/26 阅读：1660 关键词：EUV 光刻胶

光刻机领域的巨头 ASML 向 Intel 交付了首套高数值孔径 High - NA EUV 光刻机，型号为 TWINSCAN EXE：5000。在当时，业界普遍对这款光刻机寄予厚望，认为 High - NA EUV 将...

分类：业界动态时间：2025/7/5 阅读：511 关键词：EUV光刻机

在芯片制造领域，一直以来先进光刻设备都占据着核心地位。然而，英特尔一位董事提出了一个颇具挑战性的观点，他认为未来晶体管设计，如环绕栅极场效应晶体管（GAAFET）和互补场效应晶体管（CFET），可能会降低芯片制造对先进光刻设备，尤...

分类：名企新闻时间：2025/6/20 阅读：340 关键词：晶体管

如何粉碎一块薄饼？这个问题困扰着阿姆斯特丹纳米光刻高级研究中心 (ARCNL) 的研究员迪翁·恩格尔斯 (Dion Engels)。　　这里所说的薄饼指的是被粉碎的锡滴，它在 ASML 的光刻机中每秒被引爆五万次。这会产生等离子体，发射出极紫外 (EUV...

分类：业界动态时间：2025/6/17 阅读：416 关键词：EUV光刻机

在半导体制造领域，光刻机技术一直是关键的竞争焦点。近期，ASML 推出的高数值孔径（NA）EUV 光刻机备受关注，但台积电却表现出了谨慎的态度。　　ASML 的这台高数值孔径 E...

分类：业界动态时间：2025/6/9 阅读：455 关键词：台积电

根据媒体报道，作为全球晶圆代工领域的龙头企业，台积电的高层主管透露，公司目前仍在评估何时将荷兰半导体设备大厂阿斯麦（ASML）的高数值孔径极紫外光（High - NA EUV）微影设备应用于未来的制程中。在 5 月 27 日举办的 2025 年度技术...

分类：业界动态时间：2025/5/29 阅读：412 关键词：台积电

据报道，初创公司Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术使用向表面发射的原子来定义特征，其分辨率超出了极紫外光刻技术的极限。　　Lace Litho ...

分类：名企新闻时间：2025/4/23 阅读：501 关键词：EUV

据日经新闻获悉，荷兰先进芯片制造设备供应商 ASML Holdings 计划在未来几年将其驻日本机器维护人员增加五倍。　　ASML 是极紫外 (EUV) 光刻设备的唯一制造商，该设备对于...

分类：业界动态时间：2025/4/3 阅读：640 关键词：EUV光刻机 ASML

韩国两大半导体巨头三星电子和SK海力士在极紫外（EUV）光刻技术上采取了不同的策略，引起了业界的高度关注。这一发展正值两家公司都致力于增强其在高度动态和竞争激烈的半...

分类：业界动态时间：2024/12/27 阅读：876 关键词：EUV光刻技术三星 SK 海力士

1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。　　这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...

基础电子时间：2018/5/28 阅读：2036