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光刻设备

近日，日本尼康公司新任总裁兼首席执行官大村康弘在接受《日经新闻》采访时表示，尼康正积极采取行动，企图通过提供比荷兰巨头 ASML 控股公司更低的价格，来重新激活其在半...

分类：名企新闻时间：2026/5/29 阅读：5309 关键词：尼康

据业内消息人士及外媒13日消息，台积电近日召开临时董事会会议，决议收购英特尔旗下奥地利EUV光刻设备光掩模制造商IMS 10%的股权。台积电此次收购令业界感到意外。IMS...

分类：业界动态时间：2023/9/14 阅读：547 关键词：光刻设备

应用材料公司于 3 月 1 日向英特尔提供了 VeritySEM 10 系统。“有了这种半导体芯片制造设备，可以简化 EUV 光刻，并以环保的方式降低成本，”它说。供货前，ASML是全...

分类：业界动态时间：2023/3/3 阅读：564 关键词：芯片 EUV光刻

12月27日，据韩国媒体报道，存储芯片龙头企业三星计划将在明年扩大其位于韩国平泽市的最大芯片制造厂——P3工厂的产能。据记者了解，该工厂还将根据代工合同增加4纳米芯片...

分类：业界动态时间：2022/12/28 阅读：558 关键词：三星 EUV光刻设备

据外媒Tomshardware报道称，俄罗斯一家研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备，可以被用于7纳米制程芯片的生产上。俄罗斯政府推出了一项国家计划，到2030年开...

分类：行业趋势时间：2022/10/25 阅读：2001

当地时间7日晚间10点41分左右，日本千叶县西北部发生震级5以上的地震，车用芯片大厂瑞萨那珂工厂部分设备受地震影响停工。根据瑞萨8日发布的声明，公司总部（东京都）、...

分类：业界动态时间：2021/10/9 阅读：1177

据苏大维格透露，大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000，在苏大维格科技集团下线，并投入工业运行。iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台。　　iGrapher3000此...

分类：名企新闻时间：2020/7/31 阅读：1326 关键词：苏大维格 3D

据中新网无锡报道，5月14日，半导体制造设备厂商阿斯麦（ASML）与无锡高新区举行了“阿斯麦光刻设备技术服务（无锡）基地签约仪式” ，商定在无锡高新区内升级基地。　　据...

分类：业界动态时间：2020/5/19 阅读：1034 关键词：ASML光刻

中芯国际今日宣布签订一份光刻设备批量购买协议。这份批量购买订单价值近4.5亿欧元，是双方战略合作的一部分，它将有助于中芯国际适时提升先进技术制造能力。光刻是在晶圆上通过光刻蚀形成复杂晶体管结构，是半导体制造过程中至关重要的...

分类：名企新闻时间：2014/10/28 阅读：340

赛斯纯气体有限公司作为一家气体净化技术设备的世界和供应商日前在2009年国际半导体设备与材料展览会上,正式宣布引入微污染物检验服务和CollectTorr取样系统,用于对在中国的光刻和测量设备提供检验。赛斯公司开发的CollectTorr取样

分类：业界要闻时间：2009/3/26 阅读：419 关键词：污染物

MasklessLithography公司近日首次公开推出全新的可提高印制电路板（PCB）生产门槛的直写数字成像技术。MasklessLithography是硅谷一家由一群行业资深人士领导的新创企业。这种MLI-2027直写光刻系统首次在业内同时实

新品速递时间：2010/4/9 阅读：4354