类别：业界要闻 出处：网络整理 发布于：2024-09-18 09:16:45 | 882 次阅读
《目录》中的电子专用装备目录下提到，集成电路生产设备方面包括化氟化氪光刻机，光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm；氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。
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