应用材料公司于 3 月 1 日向英特尔提供了 VeritySEM 10 系统。“有了这种半导体芯片制造设备，可以简化 EUV 光刻，并以环保的方式降低成本，”它说。 供货前，ASML是全...
12月27日，据韩国媒体报道，存储芯片龙头企业三星计划将在明年扩大其位于韩国平泽市的最大芯片制造厂——P3工厂的产能。据记者了解，该工厂还将根据代工合同增加4纳米芯片...
欧洲研发机构IMEC首席运营官LucVandenHove表示，IMEC将在2010年上半年制成预投产EUV（极紫外）光刻设备。按照目前的进程，该设备将于2012年在IMEC的300mm生产线上投产。尽管对于EUV在商业制造中的合理性尚存疑问，然而I
分类：行业趋势 时间：2008/10/20 阅读：728
