半导体制造需要 100 多种不同类型的工艺工具，其中极紫外 (EUV) 光刻工具是最昂贵且耗能最高的。EUV 工具代表了该行业的最新进展，它能够在一平方英寸的硅片中塞入更多晶体...
分类：业界动态 时间：2024/11/1 阅读：688 关键词：EUV 光刻机
Nuvoton-新唐科技推出 NuEzAI-M55M1 开发板，打造简单、快速、轻松上手开发体验
随着各行各业对人工智能 (AI) 潜力的日益重视，将 AI 模型直接部署在设备端的终端 AI 正成为一股重要趋势，并广泛应用于智能家庭设备、智慧城市、工业自动化、互动玩具和穿戴式设备等领域。这些应用场景需要实时的数据处理和分析能力，同...
时间：2024/10/16 阅读：177 关键词：开发板
Nuvoton-新唐科技推出适用于工业边缘设备的 MA35D0 微处理器系列
新唐科技宣布推出 NuMicro MA35D0 系列，这是一款针对工业边缘设备应用的高效能微处理器。具有广泛的连接性和安全性，非常适合需要控制和网络的智能基础设施、制造自动化和新能源系统等应用。为了满足这些场景的运算需求，MA35D0 系列基...
时间：2024/10/16 阅读：95 关键词：工业
据 TechNews 报道，ASML 首席执行官 Christophe Fouquet 和英特尔执行官 Mark Phillips 表示，英特尔已经完成了用于 14A 及后续工艺的第二台高数值孔径 EUV 机器的组装。 ...
分类：新品快报 时间：2024/10/15 阅读：334 关键词：英特尔
消息称台积电首台高数值孔径 EUV 光刻工具将于本月开始安装
台积电在采用 EUV 光刻工具进行量产方面领先于英特尔，但在高 NA EUV 系统方面，该公司似乎落后于其美国竞争对手。据《电子时报》和《联合报》报道，英特尔已将其 ASML 高 ...
分类：业界动态 时间：2024/9/11 阅读：337 关键词：台积电
台积电首部 High NA EUV 设备的购入价格远低于原定的 3.5 亿欧元报价
Digitimes 报道称，台积电首部 High NA EUV 设备的购入价格远低于原定的 3.5 亿欧元（备注：当前约 27.55 亿元人民币）报价。 据称，台积电之所以可以享受折扣，主要是...
分类：名企新闻 时间：2024/9/10 阅读：319 关键词：台积电
Nuvoton - 新唐科技推出 M2L31 微控制器：提升能效与性能
在能效至关重要的时代，新唐科技宣布推出全新的 Arm Cortex-M23 M2L31 微控制器系列。为满足对高效能嵌入式计算需求日益增长的需求，M2L31 系列以其低功耗和高效能脱颖而出，运行速度可达 72MHz，能提供卓越的处理能力。 新唐 NuMicro...
时间：2024/8/27 阅读：127 关键词：微控制器
Nuvoton - 新唐科技推出适用于工业边缘设备的 MA35D0 微处理器系列
新唐科技宣布推出 NuMicro MA35D0 系列，这是一款针对工业边缘设备应用的高效能微处理器。 具有广泛的连接性和安全性，非常适合需要控制和网络的智能基础设施、制造自动化和新能源系统等应用。 为了满足这些场景的运算需求，MA35D0 系列...
时间：2024/8/27 阅读：103 关键词：半导体
Nuvoton - 新唐科技推出基于OpenTitan的安全芯片，成为Chromebook下一代安全解决方案
嵌入式控制器Embedded Controller及secure IC解决方案领导者新唐科技股份有限公司（Nuvoton Technology Corporation）宣布，首款基于OpenTitan open source secure silicon的商用芯片将集成至Google Chromebook平台。这是双方多年紧密合...
时间：2024/8/27 阅读：93 关键词：半导体
Nuvoton - 新唐与Qt Group深化合作 – 扩展HMI平台支持Qt for MCUs，协助客户实现高质量的GUI设计于嵌入式系统
微控制器供货商新唐科技公司，与全软件开发生命周期提供跨平台解决方案的全球软件公司Qt Group宣布深化合作，扩展新唐科技人机界面(HMI)平台支持「Qt for MCUs」图形开发框架。新唐科技的客户已可在NuMicro M467、N9H20、N9H30等系列中使...
时间：2024/8/27 阅读：114 关键词：半导体
三星或将于 2024 年底开始安装其首款高 NA EUV 光刻工具
据《首尔经济日报》援引消息人士称，三星将于 2024 年第四季度至 2025 年第一季度开始安装其首台数值孔径 (High-NA) 为 0.55 的 EUV 光刻工具。 该设备将主要用于研发目的...
分类：名企新闻 时间：2024/8/16 阅读：488 关键词：三星
台积电与 ASML 接近达成 EUV 协议，这对 1nm 芯片技术至关重要
台积电董事长刘德华今年5月秘密拜访阿斯麦总部，洽谈购买下一代极紫外（EUV）光刻设备，尤其是对半导体制造技术进步至关重要的“高数值孔径（NA EUV）”设备。 台湾《联...
东京电子 推出了 Acrevia，这是一款新型气体团簇光束 (GCB) 系统，专为细化 EUV 光刻创建的图案而设计。该工具采用低损伤表面处理，可用于多种用途，包括减少即将推出的节...
分类：业界动态 时间：2024/7/10 阅读：356 关键词：EUV
随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外（EUV）光刻设备重要性日益提升，三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争夺也愈加激烈。 此前一直犹豫是否采用下一代EUV设备的台积电CEO，放弃了内部重大活动，飞赴荷兰与ASML洽...
分类：业界动态 时间：2024/5/28 阅读：393 关键词：EUV光刻
