2nm工艺

2nm工艺资讯

AMD称:32nm工艺良品率问题已不存在

GlobalFoundries32nmSOI制造工艺碰上了麻烦的良品率问题已经是人所共知的,直接导致AMDLlanoAPU延期数月,推土机新架构产品也不得不相应推迟,但是AMD现在宣称,这个问题基本上已经不复存在了。AMD技术事业部高级副总裁Che

分类:业界要闻 时间:2010/11/13 阅读:1229 关键词:AMD

AMAT发布面向22nm工艺的掩模检查设备

美国应用材料(AMAT)发布了掩模检查设备“Aera3”.支持22nm工艺,检测灵敏度较该公司原机型“Aera2”提高50%,同时还配备了可支持ArF液浸及EUV(extremeultraviolet)两种光刻技术的功能。作为面向ArF液浸的功能,

分类:新品快报 时间:2010/9/16 阅读:297 关键词:检查设备

传台积电取消32nm工艺直接上28nm

据称,大半导体代工厂台积电已经完全取消了下一代32nm工艺,算上一直不顺利的40nm工艺真可谓是屋漏偏逢连夜雨了.台积电方面尚未就此发表官方评论,不过已经有多个消息来源确认了这一点.不过这并不意味着台积电的新工艺研发就走进了死胡同.事...

分类:名企新闻 时间:2009/11/26 阅读:313 关键词:28nm

传台积电取消32nm工艺

据称,大半导体代工厂台积电已经完全取消了下一代32nm工艺,算上一直不顺利的40nm工艺真可谓是屋漏偏逢连夜雨了.台积电方面尚未就此发表官方评论,不过已经有多个消息来源确认了这一点.不过这并不意味着台积电的新工艺研发就走进了死胡同.事...

分类:名企新闻 时间:2009/11/25 阅读:192

东芝将投产配备32nm工艺NAND闪存的SSD

东芝发布了配备基于32nm级半导体工艺多值(MLC)NAND闪存的SSD(固态硬盘)。存储容量分别为30GB和62GB。与原来的2.5英寸SSD相比,除了体积缩小至1/7左右、重量减少至1/8左右之外,耗电量也削减了约1/2。预定2009年10月开

分类:新品快报 时间:2009/9/29 阅读:979 关键词:NANDSSD

东芝展示基于32nm工艺闪存芯片7月批量生产

东芝日前展示了基于32纳米制造工艺的单芯片32GbNANDFlash闪存芯片。首批32Gb芯片将主要被应用于记忆卡和USB存储设备,未来会扩展到嵌入式产品领域。随着越来越多的移动设备在声音和影像方面的逐步数字化,高容量、更小巧的内存产品在市场...

分类:名企新闻 时间:2009/5/5 阅读:837

半导体工艺发展Intel将直接进军22nm工艺

日前,IBM技术联盟发布了28nm工艺,硅半导体工艺也因此再进一步,那么一贯在这方面走在业界前列的Intel又有什么计划呢?其实28nm问题的关注点并非这种新工艺的种种好处。一般来说,微处理器在制造中从不使用这种半代工艺(half-node),因...

分类:名企新闻 时间:2009/4/30 阅读:1566 关键词:Intel半导体

诺发开发出现有材料的32nm工艺LSI布线技术

美国诺发系统(NovellusSystems)开发出了用于32nm工艺的LSI布线技术(英文发布资料)。无需大幅改变现有的铜/低介电率(low-k)膜布线材料,即可使布线的有效介电常数(keff)比原来降低5%。该技术不仅能够控制生产成本上涨,还可

分类:业界要闻 时间:2009/4/7 阅读:1311

英国ARM采用32nm工艺试制出配备Cortex-A9的测试芯片

英国ARM宣布,在于西班牙巴塞罗那举行的“MobileWorldCongress(MWC)”上,展出了采用32nm工艺试制的首款ARM处理器。此次使用的工艺为美国IBM等公司的CommonPlatform技术,采用了高介电率(high-k)绝缘材料

分类:名企新闻 时间:2009/2/23 阅读:923

Intel宣布32nm工艺研发顺利完成于09年第四季度如期投产

据有关消息报道,Intel宣布下一代32nm半导体生产工艺的研发阶段已经顺利完成,将于2009年第四季度如期投产。新工艺使用的第二代高K介质金属栅极技术、193nm沉浸式光刻技术、增强型晶体管应变技术,它们都将继续提高Intel处理器的性能和能...

分类:名企新闻 时间:2009/1/13 阅读:773 关键词:Intel

美国政府批准提供技术中国SMIC启动32nm工艺技术开发

中芯国际集成电路制造(SMIC)将从2009年1月正式启动32nm工艺技术的开发。开发得以启动的原因是美国政府批准向SMIC提供32nm工艺技术。在得到美国政府许可后,SMIC将在该公司拥有技术的全部工厂启动32nm逻辑工艺的开发。并且,该公司

分类:业界要闻 时间:2008/11/5 阅读:915

松下与瑞萨科技合作开发32nm工艺节点SoC

在始于1998年的联合工艺技术开发的成功合作基础上,松下公司与瑞萨科技公司已开始合作开发下一代32nm节点SoC的基本工艺技术。两家公司对其32nm节点晶体管技术充满信心,其他进展很快可以用于批量生产的产品。可以预期,由于实现了其设计...

分类:名企新闻 时间:2008/10/24 阅读:748 关键词:SoC

松下与瑞萨合作开发32nm工艺节点SoC

在始于1998年的联合工艺技术开发的成功合作基础上,松下公司与瑞萨科技公司已开始合作开发下一代32nm节点SoC的基本工艺技术。两家公司对其32nm节点晶体管技术充满信心,其他进展很快可以用于批量生产的产品。可以预期,由于实现了其设计...

分类:行业访谈 时间:2008/10/24 阅读:790 关键词:SoC

中芯国际透露40nm和32nm工艺开发计划

据EETimes网站报道,中国大陆代工厂商中芯国际(SMIC)近日透露了将于2009年推出45nm和40nm技术。总部位于上海的中芯国际希望在2011年前完成32nm的开发,并称公司正与IBM商讨32nm技术授权事宜。中芯国际未透露该合作细节。在6

分类:名企新闻 时间:2008/10/6 阅读:317 关键词:40nm

联华电子加盟SEMATECH,致力于300mm晶圆的22nm工艺以后的技术开发

半导体研究开发协会美国SEMATECH与台湾联华电子(UMC)近日宣布,UMC将决定加盟SEMATECH(英文发布资料)。加盟该协会之后,UMC将致力于研发包括22nm以后工艺技术的300mm晶圆技术。目前,UMC正在从事90nm和65nm工艺产品

分类:名企新闻 时间:2008/8/4 阅读:390