类别：名企新闻 出处：网络整理 发布于：2020-09-28 14:42:07 | 1816 次阅读
Mentor, a Siemens business 近日宣布旗下多条产品线和工具已经通过台积电 (TSMC) 的3nm (N3) 工艺技术 。
台积电设计基础架构管理事业部 总监Suk Lee 表示：“此次 进一步体现了Mentor对于双方共同客户以及台积电生态系统的突出价值。我们很高兴看到Mentor的系列 平台正不断地获得台积电 ，以帮助我们的客户使用 先进的工艺技术在功耗和性能方面获得大幅提升，进而成功实现芯片设计。”
此次获得台积电N3工艺 的 Mentor 产品包括Analog FastSPICE? 平台，可为纳米级模拟、射频 (RF)、混合信号、存储器和定制数字电路提供先进的电路验证。
Mentor 还同时扩展了其Xpedition? 软件对TSMC 2.5/3D 产品的支持，包括用于设计规划和网表的 Xpedition Substrate Integrator 以及用于版图的 Xpedition Package Designer，经过增强后的Xpedition Package Designer现可以满足台积电的InFO-R技术要求。此外，Mentor Calibre?物理验证平台中的3Dstack技术还通过对 CoWoS?-S 的支持，扩展了对台积电晶粒内(inter-die) LVS 的支持。
Mentor 的IC 验证平台Calibre nmPlatform 也有多款产品获得了台积电 N3 和 N5 工艺 ，其中包括：
· Calibre nmDRC? 和 Calibre nmLVS? 工具套件 - 用于 IC 物理和电路验证 sign-off。Calibre在每个新制程节点上持续改进和开发新功能，同时提供业界 高准确性，可扩展性和周转时间。
· Calibre PERC? - 采用独特集成的方法对物理版图和网表进行分析，能够自动执行复杂的可靠性验证检查。同时，Mentor还与台积电合作，针对 ESD（静电放电）和闩锁效应验证提供更加全面的功能。
· Calibre xACT? 寄生参数提取解决方案 – 可以提供3D FinFET 结构所需的高 ，并且帮助Mentor 和台积电客户充分利用台积电3nm 工艺固有的性能优势。
Mentor IC EDA 执行副总裁 Joe Sawicki 表示：“Mentor 和台积电将继续发扬双方的合作优势，为我们的共同客户提供 的解决方案。台积电的 3nm 工艺技术是当前 先进的工艺技术，其不仅为 客户提供了出色的性能和功率效率，同时也再 向业界证明，摩尔定律在今天依然是行之有效的。”
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