KLA-Tencor宣布推出针对光学和EUV 空白光罩的全新FlashScanTM产品线
特殊材料 Entegris Inc. (NASDAQ: ENTG) 携手特殊化学品制造商和经销商博纯材料（福建）有限公司，昨日为博纯的福建省泉州市新化学工厂举办盛大的开幕式，迎来双方合作的个里程碑。此次庆祝活动标志着为半导体制造工艺中使用的特殊气体产...
分类：新品快报 时间：2017/8/26 阅读：320
基于三星10nm制程工艺的骁龙835早已随着三星S8、小米6等一众手机面世，而基于台积电10nm制程工艺的联发科Helio X30也和魅族Pro 7系列手机一起亮相了。除此之外麒麟970及A11...
张忠谋曾比喻说：“三星是一只700磅的大猩猩”，表示它十分强悍。然而在现阶段的代工业中三星尚是“新进者”，需要时间的积累。01、引言据IC Insight公布的今年Q2数据，三...
全球产业在10奈米制程世代遭遇到前所未有的挫折，近期纷纷将重点资源投入在7奈米制程上，不仅GlobalFoundries(GF)在超微(AMD)力挺下决定再战7奈米制程，更重要的是，众所期...
4月19日公布2017季财报：营收净额 (net sales) 19.4亿欧元，毛利率 (gross margin) 为47.6%，极紫外光光刻系统的未出货订单则累积到21台，价值高达23亿欧元。ASML预估2017第二季营收净额 (net sales) 将在19~20亿欧元之间，毛利率 (gross...
分类：业界动态 时间：2017/4/21 阅读：318
全球半导体微影技术厂商艾司摩尔（ASML）19 日公布2017 季财报。ASML 季营收净额（net sales）19.4 亿欧元，毛利率（gross margin）为47.6%，EUV 极紫外光微影系统的未出货...
分类：业界动态 时间：2017/4/20 阅读：530
据相关机构统计，整个2016年，ASML销售了139台光刻机。在半导体设备行业的市场份额在58％左右，其他的对手包括尼康，佳能等。当然了，半导体设备行业的故事是下一代光刻机——EUV，ASML在这方面是毫无疑问的霸主，其极紫外光刻机去年销售...
分类：业界要闻 时间：2017/4/5 阅读：545 关键词：半导体
在日前于美国举行的西部光电展(PhotonicsWest)上，业界多家厂商探讨了极紫外光(EUV)微影所需的250W光源、具有发展前景的红外线与近红外线摄影机，以及利用雷射发光二极体(LED)光源进行资料通讯等议题。这场年度盛会提供了展示光学技术进
分类：行业趋势 时间：2017/3/9 阅读：620
三星、台积电10纳米技术量产，7纳米制程战火持续升高！而且随着关键的微影技术来到瓶颈，7纳米制程技术也变成新一轮制程技术的关键之战。除了三星在去年年中传出急购EUV机...
分类：业界动态 时间：2017/1/19 阅读：569 关键词：7nm
三星虽然距离台积电还有距离，但是在芯片代工的技术上确也是猛追。2016年5月9日报道，依据2015年市场数据，ICInsights和高德纳咨询公司日前宣布三星已成为全球第四大芯片制造商。但是三星距离头号芯片制造商台湾积体电路制造公司（TSMC）...
分类：名企新闻 时间：2017/1/19 阅读：300
1月12日，台积电对外公布财报，其2016年年营收创下历史新高，达到299.57亿美元。其中，先进工艺制程营收贡献显着。16/20纳米制程去年第四季度出货占比达到33%，28纳米制程第四季度出货占比达到24%。先进制程显然对吸引高利润率业务极为关...
分类：名企新闻 时间：2017/1/18 阅读：411 关键词：7nm
半导体押宝EUV ASML突破瓶颈 预计2018年可用于量产
摩尔定律(Moore’sLaw)自1970年代左右问世以来，全球半导体产业均能朝此一定律规则前进发展，过去数十年来包括光微影技术(Photolithography)等一系列制程技术持续的突破，才得以让半导体产业能依照摩尔定律演进，进而带动全球科技产
分类：行业趋势 时间：2016/11/21 阅读：371 关键词：半导体
在套极紫外光(EUV)微影设备正式出货之前，荷兰半导体设备大厂ASML透露了产业界期待已久的后续计划；该公司表示将投资并与光学大厂蔡司(CarlZeiss)合作，推出数值孔径(numericalaperture，NA)高于0.5的版本，但该新一
分类：行业趋势 时间：2016/11/10 阅读：371
ASML宣称它的Q2收到4台EUV订单，预期明年EUV发货达10台以上。EUV光刻设备一再延迟，而消息可能在2020年时能进入量产，而非常可能应用在5nm节点。业界预测未来在1znm的存储...
分类：业界动态 时间：2016/7/26 阅读：337 关键词：半导体
ASML宣称它的Q2收到4台EUV订单，预期明年EUV发货达10台以上。EUV光刻设备一再延迟，而消息可能在2020年时能进入量产，而非常可能应用在5nm节点。业界预测未来在1znm的存储器生产中可能会有2层或者以上层会采用它,及在制程节
分类：业界要闻 时间：2016/7/25 阅读：223 关键词：半导体
